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佳能（Canon）公司近日發布新聞，開始銷售芯片生產設備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復雜光刻技術的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示這套生產設備的工作原理和行業領導者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上。

佳能表示會繼續改進和發展這套系統，未來有望用于生產 2nm 芯片。

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